Особливості електрохімічного осадження композиційних покриттів на основі кобальту.
Автор(и)
Т. О. Ненастіна
Харківський національний автомобільно-дорожній університет
М. В. Ведь
Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут»
М. Д. Сахненко
Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут»
В. О. Проскуріна
Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут»
Анотація
Одним із зручних і поширених способів отримання композиційних матеріалів є електрохімічне осадження. Аналіз літератури, присвяченої закономірностям формування композиційних покриттів, показує, що можливі кілька способів введення частинок дисперсної фази до складу металевої матриці. Найбільш цікавим є співосадження неметалевих продуктів супутніх електрохімічних або хімічних перетворень в приелектродному шарі за участю компонентів електролітів. При цьому частинки дисперсної фази не вводяться до складу розчину, а генеруються безпосередньо в приелектродному шарі в наслідок локального збільшення кислотності електроліту за рахунок реакції виділення водню, що протікає паралельно.